A practical, self-catalytic, atomic layer deposition of silicon dioxide.
Bachmann J, Zierold R, Chong YT, Hauert R, Sturm C, Schmidt-Grund R, Rheinländer B, Grundmann M, Gösele U, Nielsch K.
Bachmann J, et al.
Angew Chem Int Ed Engl. 2008;47(33):6177-9. doi: 10.1002/anie.200800245.
Angew Chem Int Ed Engl. 2008.
PMID: 18618880
No abstract available.